电子工业专用装备重点企业专利分析

发布于 2022-05-20 09:42

本文以电子工业专用装备产业-三星电子公司为例，从以下几个维度对重点企业进行专利分析。

一、申请趋势

从韩国三星电子公司在电子工业专用装备和主要技术分支专利申请趋势（图4-2-1），在1995年以前三星电子公司在电子工业专用装备领域的专利申请量较少，一直处于技术萌芽期；从1995年开始相关专利申请量大幅度增加，直至1997年达到申请数量高峰值，专利年申请量达1209件。在1997年以后电子工业专用装备专利申请量呈现下滑趋势。半导体器件和集成电路专用装备的相关专利申请趋势和电子工业专用装备的申请趋势大体一致，从1995年开始相关专利进入快速发展期，直至2005年达到峰值，申请数量为1219件。

说明韩国三星电子公司在电子工业专用装备领域的技术研发起步较早，在2年时间里迅速发展为较为成熟的技术。

图1 三星电子在电子工业专业装备和主要技术分支专利申请趋势

二、专利布局分析

图2 三星电子在电子工业专业装备专利布局分布

三、发明人团队分析

表1示出三星电子在电子工业专用装备领域发明团队的主要成员。可以看出排名前10的发明人中排名第1位和第2位的发明人的发明数量比较突出，说明此2位发明人实力比较强，从一定程度上反映出此2位发明人的重要地位。

表1 三星电子在电子工业专用装备专利发明人排名

发明(设计)人	专利族数量
CHOI GIL HEYUN	105
YOON BO UN	82
HYUN SANG JIN	72
SHIN YU GYUN	72
SHIN DONG SUK	71
KIM BYUNG HEE	69
KIM JU YOUN	69
PARK JE MIN	69
CHOI GIL HYEON	62
김동규金东奎	61

四、专利产出构成分析

对三星电子在电子工业专用装备专利构成分析（见图3），三星电子在半导体器件和集成电路专用装备相关专利申请量最高，申请数量为9309件，占比80%；其他四个技术分支专利申请总量占比约20%。由此，可以看出三星电子在电子工业专用装备领域的研发投入重心在半导体器件和集成电路专用装备技术上。

图3 三星电子在电子工业专用装备专利构成图

三星电子在半导体器件和集成电路专用装备专利构成（见图4和图5），在半导体材料制备、外延和化学机械抛光设备；爆光、刻蚀和匀胶显影设备；扩散、离子注入和快速热处理设备；化学、物理气相淀积和镀铜设备；后序组装和封装生产设备和在线工艺检测设备、中间产品和成品测试设备的专利申请量占比分别是21%、23%、16%、15%、5%和20%。可以看出三星电子在半导体器件和集成电路专用装备领域的各项细分方向均有涉及，且专利申请量构成较为均衡，说明三星电子在半导体器件和集成电路专用装备的技术研发很成熟全面。