美媒:6个月,国产光刻机留给ASML的时间不多了

光刻机是生产制造芯片的必要设备，而在光刻机领域内，ASML的技术最为先进，其量产的DUV光刻机和EUV光刻机几乎占领了中高端市场。

尤其是EUV光刻机，更是成为7nm以下芯片的必要设备，以至于全球晶圆代工厂争相购买。

上海微电子是国内光刻机技术最先进的厂商，其已经够量产多种型号的光刻机。

数据显示，上海微电子占领了国内八成光刻机市场，并拿下了全球四成的封装光刻机市场。

根据美媒的报道，国产先进光刻机（深紫外光刻机）有望在今年年底到来，该光刻机可以生产制造10nm以上制程的芯片。

另外，国内已经开始公开招标建设先进光源系统生产制造基地，这也意味着国内厂商已经掌握了相关技术，有望加速先进光刻机的批量生产制造。

再加上，中心国际等连续投资1000亿元扩大28nm等芯片生产线，这些产能将从2023年陆续投入使用，这就意味着其需要更多的深紫外光刻机。

于是，美媒方面又表示，6个月，国产光刻机留给ASML的时间不多了。其之所以如此表态，也是有原因的。

要知道，DUV光刻机目前也相当于只有ASML能够生产制造，所以中芯等厂商抓住机会就一次性购买了11亿美元的设备。

但如今情况不相同，国产先进光刻机有望在今年年底到来，其采用的也是深紫外光源技术，能够将生产制造10nm以上制程的芯片。

可以说，一旦国产光刻机批量生产制造后，ASML在国内的市场必然会受到影响，毕竟，国产设备物美价廉，这一点也得到了ASML的总裁的认可。

另外，采用国内光刻机等设备生产制造的芯片不含美技术，可以自由出货，一旦采用ASML的光刻机等设备，其生产制造的芯片就不能自由出货。

在这样的情况下，国内厂商自然优先考虑国产先进光刻机，并非ASML的光刻机。

其次，ASML不能自由出货，尤其是EUV光刻机，连外企中国分厂出货都不行，目前其向国内出货的产品多数都是DUV光刻机等设备。

而国产先进光刻机在今年年底正式下线后，其自然能够与ASML的DUV光刻机同台竞技，国产设备在出货、性价比等方面有优势，ASML的市场自然会受到影响。

尽管ASML有更先进的EUV光刻机，但其不能自由出货，这就意味着在深紫外光刻机方面，其市场必然会被蚕食。

更何况，ASML也明确表示，倘若ASML一直不能自由出货，不出10年，就可能会全面退出国内市场。

最后，绕过ASML的光刻机生产制造芯片，国内厂商也在想办法。

华为已经明确表示未来将会采用堆叠技术的芯片，用面积换性能，让华为产品具备更大的竞争力。

目前，华为已经正式对外公布了多个与堆叠技术相关的芯片，主要涉及生产制造、成本以及功耗等方面。

而且，华为也正在进行光电芯片研发，用任正非的话说，光电芯片可以完全绕开美技术，自然能够完全绕开ASML 的光刻机。

也就是说，无论堆叠技术的芯片还是光电芯片，都能够让华为等国内厂商降低对ASML的依赖。所以美媒才说6个月，国产光刻机留给ASML的时间不多了。